Die Miniaturisierung mache Rechner immer kleiner und gleichzeitig leistungsfähiger, teilte das PSI am Dienstag mit. So würden Entwicklungen wie Künstliche Intelligenz und 5G erst ermöglicht.
Die derzeit modernsten Mikrochips haben Leiterbahnen, die zwölf Nanometer voneinander entfernt sind. Mit ihrer neuen Technik erzeugten die Forschenden Leiterbahnen, die fünf Nanometer auseinander liegen. Zur Vorstellung: Fünf Nanometer verhalten sich zur Dicke eines Haars wie etwa ein halber Zentimeter zur Länge eines Fussballfelds.
Entscheidend für die Verkleinerung und immer kompaktere Chips ist laut dem Forschungsinstitut das Licht, mit dem die Schaltkreise auf die Chips aufgetragen wird. Für die Herstellung von Mikrochips wird die sogenannte Fotolithografie verwendet: Auf einer dünnen Scheibe aus Silizium, den sogenannten Wafer, wird eine lichtempfindliche Schicht aufgetragen, der Fotolack.
Mit Licht können auf den Fotolack Leiterbahnen gebrannt werden. Im neuen Verfahren wird der Fotolack nicht wie normalerweise direkt mit extrem ultraviolettem Licht (EUV) bestrahlt. Stattdessen wird das Licht von zwei Spiegeln reflektiert.
Derzeit sei dieser Ansatz für die industrielle Chipproduktion uninteressant, da er im Vergleich zu industriellen Standards sehr langsam sei und nur einfache Strukturen statt eines Chipdesigns erzeugen könne, schrieb das PSI. Er biete jedoch eine Methode für die frühzeitige Entwicklung von Fotolacken, die für die künftige Chipproduktion benötigt würden.